폭약이 폭발하기 위해서는 마찰, 열, 충격이 가해져야 하며 이 역할을 하는 것이 뇌관(Detonator)이다. 뇌관은 금 속 관체에 기폭감도가 예민한 화약 (기폭약, 첨장약)을 채워 전기 또는 비전기적인 방법에 의해 기폭 되면서 파편과 열을 발생시키고 그것에 의해 주 폭약이 전폭하게 된다. 또한, 뇌관의 장약과 점약장치 사이에는 지연장치가 삽입되 어 점화 후 수 밀리초(millisecond : MS)에서 수초(Second : LP)가 지난 후 기폭 되도록 되어 있다. 뇌관 (detonator, blasting cap) 은 기폭에너지에 따라 공업용뇌관, 전기뇌관, 비전기뇌관, 전자뇌관이 있다.

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1) 전기뇌관(electric detonator)

전기뇌관은 보통 공업뇌관에 전교장치를 한 것이다. 즉 공업뇌관의 공간부분에 각선을 끼우고, 그 끝에 백금 80%, 이리듐 20%의 합급선(직경 0.02mm, 길이 2mm)의 전교를 납땜하고 점화약을 묻힌 다음 공간부분을 막아버린 것이다. 각선에 전기를 통하면 백금선이 가열되어 면화약 등으로 된 점화구가 발화하고, 각선에 전기를 통하면 백금선이 가 열되어 면화약 등으로 된 점화구가 발화하고, 계속하여 뇌관이 점폭작용을 하게 된다. 점화약은 티오시안산납과 염 소산칼륨의 혼합물을 연화약 용액으로 반죽을 만들고, 이것을 백금선에 묻힘 다음 건조하여 고착시킨다. 전기뇌관에는 저압 전기뇌관과 고압 전기뇌관의 두 가지가 있으나, 보통은 저압 전기뇌관이 많이 사용되고 있다. 점화약과 기폭약 사이에 지연장치를 해두면 점화한 다음 일정한 시간이 지난 후에야 비로소 점폭하게 된다. 지연장 치가 없는 것을 순발전기뇌관, 지연장치가 있는 것을 지발 전기뇌관이라고 한다. 지발전기뇌관은 0.1~1.0초 사이의 간격으로 터지는 보통 단발전기뇌관 (DS)과 0.01 ~ 0.1초 사이 즉 10~100 밀리세컨드(Milisecond) 간격으로 터지는 밀리세컨드 단발전기뇌관(MS)으로 나누어진다.

2) 비전기식뇌관(Non-Electric Detonator)

전기를 사용하지 않는 신 개념의 기폭 시스템을 의미하며 전기뇌관의 각선과 Fuse Head 대신에 충격파를 점폭약 에 전달하는 플라스틱 튜브로 대체된다. 플라스틱 튜브의 끝 부분에서 나오는 충격파는 뇌관의 지연요소(연시약)를 점화시킨다. 외경이 3mm인 플라스틱 튜브는 얇은 반응물질(HMX 와 알루미늄)으로 도포되어 있으며 초당 약 2,000m/sec의 속도로 충격파를 전달하여 지연요소를 점화시키지만 튜브 자체는 손상을 입지 않을 정도로 안전하다. 즉, 일정 충격과 열을 동시에 동반하여야만 플라스틱 튜브를 점화시킬 수 있으며 튜브가 타들어 가는 동안 이 플라스 틱 튜브 자체는 충격파의 영향을 받지 않으므로 폭약이 포설된 곳을 튜브가 지난다 할지라도 폭약을 기폭시키지는 못한다.

3) 전자뇌관(Electronic Detonator)

전자뇌관은 자체 IC회로 (Electronic Chip)를 내장하여 1~2ms의 초정밀시차(오차범위 0.1~0.2% 이내)로 기존 뇌관에 비해 더욱 우수한 진동억제(Vibration Control), 제어발파(Control Blasting) 효과의 극대화와 터널 외곽 공의 발파(Contour Blasting in Tunnel)에서 미려한 파단면의 생성에 따른 콘크리트 타설량 감소와 주변암반의 손상영역 저감 등에 대한 효과가 있다. 전자뇌관은 자체로 프로그래밍이 가능하고, Blaster의 발파신호에 따라 독립적으로 뇌관을 기폭 시킬 수 있는 에너 지를 저장하는 방식이며 1 프로그래밍이 가능한 전자뇌관과 이를 컨트롤하는 2 Scanner와 3 Blast box로 구성 되어 있다. 4 Network tester 연결구 및 보조연결구로 구성되어 있다.